砷化镓晶片表面损伤层分析
文献类型:期刊论文
作者 | 郑红军 ; 卜俊鹏 ; 曹福年 ; 白玉柯 ; 吴让元 ; 惠峰 ; 何宏家 |
刊名 | 稀有金属
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出版日期 | 1999 |
卷号 | 23期号:4页码:241 |
英文摘要 | 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:08:38导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:08:38Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5129.pdf: 257338 bytes, checksum: 46ba2eb0c3c8aad0dbce798512bcbd7f (MD5) Previous issue date: 1999; 中科院半导体所 |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | CSCD |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18165] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑红军,卜俊鹏,曹福年,等. 砷化镓晶片表面损伤层分析[J]. 稀有金属,1999,23(4):241. |
APA | 郑红军.,卜俊鹏.,曹福年.,白玉柯.,吴让元.,...&何宏家.(1999).砷化镓晶片表面损伤层分析.稀有金属,23(4),241. |
MLA | 郑红军,et al."砷化镓晶片表面损伤层分析".稀有金属 23.4(1999):241. |
入库方式: OAI收割
来源:半导体研究所
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