ECR plasma CVD法淀积980 nm大功率半导体激光器端面光学膜技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈良惠
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| 刊名 | 中国激光
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| 出版日期 | 1999 |
| 卷号 | 26期号:9页码:811 |
| 中文摘要 | 介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR plasma CVD)法淀积980nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺条件，探索了膜系监控的方法和优越性，讨论了这种淀积方法的优点和淀积的光学膜的优良特性。 |
| 英文摘要 | 介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR plasma CVD)法淀积980nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺条件，探索了膜系监控的方法和优越性，讨论了这种淀积方法的优点和淀积的光学膜的优良特性。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:09:17导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:09:17Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5203.pdf: 176905 bytes, checksum: 51f6b88ea6b7e359ef0a5d902c4cf133 (MD5) Previous issue date: 1999; 中科院半导体所 |
| 学科主题 | 光电子学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18311]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈良惠. ECR plasma CVD法淀积980 nm大功率半导体激光器端面光学膜技术[J]. 中国激光,1999,26(9):811. |
| APA | 陈良惠.(1999).ECR plasma CVD法淀积980 nm大功率半导体激光器端面光学膜技术.中国激光,26(9),811. |
| MLA | 陈良惠."ECR plasma CVD法淀积980 nm大功率半导体激光器端面光学膜技术".中国激光 26.9(1999):811. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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