反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陆建祖 ; 魏红振 ; 李玉鉴 ; 张永刚 ; 林世鸣 ; 余金中 ; 刘忠立 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
 |
| 出版日期 | 2000 |
| 卷号 | 6期号:4页码:420 |
| 中文摘要 | 以SF_6/N_2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法 |
| 英文摘要 | 以SF_6/N_2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:09:36导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:09:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5258.pdf: 367185 bytes, checksum: 12db9072138d80cb07c48d7d846e1d5e (MD5) Previous issue date: 2000; 国家863计划; 中国科学院半导体所 |
| 学科主题 | 微电子学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 资助信息 | 国家863计划 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18421]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陆建祖,魏红振,李玉鉴,等. 反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究[J]. 功能材料与器件学报,2000,6(4):420. |
| APA | 陆建祖.,魏红振.,李玉鉴.,张永刚.,林世鸣.,...&刘忠立.(2000).反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究.功能材料与器件学报,6(4),420. |
| MLA | 陆建祖,et al."反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究".功能材料与器件学报 6.4(2000):420. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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