ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谭满清 ; 陆建祖 ; 李玉鉴 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
 |
| 出版日期 | 2000 |
| 卷号 | 6期号:3页码:248 |
| 英文摘要 | 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:09:43导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:09:44Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5272.pdf: 328523 bytes, checksum: 5045d2f83a4e3de6d265b26d88fa6e98 (MD5) Previous issue date: 2000; 国家863计划; 中科院半导体所工程中心 |
| 学科主题 | 半导体器件 |
| 收录类别 | CSCD |
| 资助信息 | 国家863计划 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18449]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谭满清,陆建祖,李玉鉴. ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟[J]. 功能材料与器件学报,2000,6(3):248. |
| APA | 谭满清,陆建祖,&李玉鉴.(2000).ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟.功能材料与器件学报,6(3),248. |
| MLA | 谭满清,et al."ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟".功能材料与器件学报 6.3(2000):248. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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