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CMOS集成电路用Φ150-200mm外延硅材料

文献类型:期刊论文

作者王启元 ; 林兰英 ; 何自强 ; 龚义元 ; 蔡田海 ; 郁元桓 ; 何龙珠 ; 高秀峰 ; 王建华 ; 邓惠芳
刊名半导体学报
出版日期2001
卷号22期号:12页码:1538
中文摘要报道了Φ150mm CMOS硅外延材料的研究开发及集成电路应用成果,对Φ200mmP/P~-硅外延材料进行了初步探索研究。Φ150mm P/P~+硅外延片实现了批量生产,并成功应用于集成电路生产线,芯片成品率大于80%。硅外延片的参数指标能满足集成电路制造要求。
英文摘要报道了Φ150mm CMOS硅外延材料的研究开发及集成电路应用成果,对Φ200mmP/P~-硅外延材料进行了初步探索研究。Φ150mm P/P~+硅外延片实现了批量生产,并成功应用于集成电路生产线,芯片成品率大于80%。硅外延片的参数指标能满足集成电路制造要求。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:10:18导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:10:19Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5353.pdf: 321140 bytes, checksum: 2cc15b5f01358b599dc51ff11fac6e9d (MD5) Previous issue date: 2001; 国家科技攻关项目; 中科院半导体所;中科院微电子中心
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息国家科技攻关项目
语种中文
公开日期2010-11-23 ; 2011-04-29
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18611]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
王启元,林兰英,何自强,等. CMOS集成电路用Φ150-200mm外延硅材料[J]. 半导体学报,2001,22(12):1538.
APA 王启元.,林兰英.,何自强.,龚义元.,蔡田海.,...&邓惠芳.(2001).CMOS集成电路用Φ150-200mm外延硅材料.半导体学报,22(12),1538.
MLA 王启元,et al."CMOS集成电路用Φ150-200mm外延硅材料".半导体学报 22.12(2001):1538.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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