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MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器

文献类型:期刊论文

作者吴根柱 ; 张子莹 ; 任大翠 ; 张兴德
刊名半导体学报
出版日期2001
卷号22期号:8页码:1057
中文摘要用MOCVD方法生长了InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器外延片,用光刻、干法刻蚀和湿法刻蚀等现代化的微加工技术制备出直径9.5μm的InGaAs/InGaAsP微碟激光器,并详细介绍了整个制备工艺过程。在液氮温度下用氩离子激光器泵浦方式实现了低阈值激射,测出单个微碟激光器的阈值光功率为150μW,激射波长约为1.6μm,品质因数Q=800,激射光谱线宽为2nm,同时指出微碟激光器射线宽比F-P普通激光器宽很多是由于其品质因数很高造成的。
英文摘要用MOCVD方法生长了InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器外延片,用光刻、干法刻蚀和湿法刻蚀等现代化的微加工技术制备出直径9.5μm的InGaAs/InGaAsP微碟激光器,并详细介绍了整个制备工艺过程。在液氮温度下用氩离子激光器泵浦方式实现了低阈值激射,测出单个微碟激光器的阈值光功率为150μW,激射波长约为1.6μm,品质因数Q=800,激射光谱线宽为2nm,同时指出微碟激光器射线宽比F-P普通激光器宽很多是由于其品质因数很高造成的。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:10:22导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:10:22Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5366.pdf: 357425 bytes, checksum: 6e6497f94cf56be17c77183bdb5bd319 (MD5) Previous issue date: 2001; 兵器科技预研基金; 长春光学精密机械学院;中科院半导体所国家光电子工艺中心
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息兵器科技预研基金
语种中文
公开日期2010-11-23 ; 2011-04-29
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18637]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
吴根柱,张子莹,任大翠,等. MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器[J]. 半导体学报,2001,22(8):1057.
APA 吴根柱,张子莹,任大翠,&张兴德.(2001).MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器.半导体学报,22(8),1057.
MLA 吴根柱,et al."MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器".半导体学报 22.8(2001):1057.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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