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辐射加固的JFET/SOS:工艺及γ辐射效应

文献类型:期刊论文

作者于芳
刊名半导体学报
出版日期1999
卷号676期号:0
学科主题微电子学
收录类别CSCD
语种中文
公开日期2010-11-23
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18897]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
于芳. 辐射加固的JFET/SOS:工艺及γ辐射效应[J]. 半导体学报,1999,676(0).
APA 于芳.(1999).辐射加固的JFET/SOS:工艺及γ辐射效应.半导体学报,676(0).
MLA 于芳."辐射加固的JFET/SOS:工艺及γ辐射效应".半导体学报 676.0(1999).

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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