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低阈值1.3μm InGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP-MOCVD生长

文献类型:期刊论文

作者王玉田; 王圩; 朱洪亮
刊名半导体学报
出版日期1998
卷号19期号:3页码:218
中文摘要报道了用低压-金属有机化学气相淀积(LP-MOCVD)方法制作1.3μm应变补偿多量子阱结构材料。X射线双晶衍射摇摆曲线可清晰地看到±4级卫星峰和卫星峰间的Pendellosong条纹。整个有源区的平均应变量几乎为零。用掩埋异质结(BH)条形工艺制备的含一级光栅的DFB激光器室温下阈值电流2~4mA,外量子效率0.33mW/mA,线性输出光功率达30mW,边模抑制比(SMSR)大于35dB。20~40℃下的特征温度T_0为67K。
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
语种中文
公开日期2010-11-23
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19229]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
王玉田,王圩,朱洪亮. 低阈值1.3μm InGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP-MOCVD生长[J]. 半导体学报,1998,19(3):218.
APA 王玉田,王圩,&朱洪亮.(1998).低阈值1.3μm InGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP-MOCVD生长.半导体学报,19(3),218.
MLA 王玉田,et al."低阈值1.3μm InGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP-MOCVD生长".半导体学报 19.3(1998):218.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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