用气相色谱法测定半导体工艺中固、液、气相砷、磷及化合物的新方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 闻瑞梅 |
| 刊名 | 半导体学报
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 卷号 | 18期号:1页码:64 |
| 中文摘要 | 研究了一种快速、灵敏、可靠的高温氢还原-气相色谱分析方法,样品不需预处理,使气相色谱仪能直接测定固、液、气相样品中砷、磷及其化合物的含量.砷、磷的检测限分别为0.01mg/L和0.003mg/L.相对偏差分别为6.2％和8.6％,测定范围为10~(-5)～10~(-11),并与经典方法进行对比,结果一致. |
| 学科主题 | 半导体化学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19417]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻瑞梅. 用气相色谱法测定半导体工艺中固、液、气相砷、磷及化合物的新方法[J]. 半导体学报,1997,18(1):64. |
| APA | 闻瑞梅.(1997).用气相色谱法测定半导体工艺中固、液、气相砷、磷及化合物的新方法.半导体学报,18(1),64. |
| MLA | 闻瑞梅."用气相色谱法测定半导体工艺中固、液、气相砷、磷及化合物的新方法".半导体学报 18.1(1997):64. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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