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多孔硅中的电子激发态及其光谱研究

文献类型:期刊论文

作者薛舫时
刊名半导体学报
出版日期1997
卷号18期号:3页码:161
中文摘要用硅-氧化硅复合纳米材料的能带混合模型研究了多孔硅中的高能激发态.理论计算表明,随着电子能量的升高△波和г波之间产生了极强的相互耦合,形成一对强△态和强г态.这两种状态分别被限制在中心硅丝和表面氧化硅层中,从而产生实验中观察到的量子限制态和非量子限制态.在有效质量理论框架下计算了不同能级间的光跃迁矩阵元,得出了跃迁选择定则.强△态与г态间的跃迁几率很小,在俘获电子以后可以构成一种元激发陷阱.运用所计算的结果较好地解释了实验中观察到的PL和CL光谱中的量子限制态、非量子限制态、元激发陷阱以及各种不同的谱峰.
英文摘要用硅-氧化硅复合纳米材料的能带混合模型研究了多孔硅中的高能激发态.理论计算表明,随着电子能量的升高△波和г波之间产生了极强的相互耦合,形成一对强△态和强г态.这两种状态分别被限制在中心硅丝和表面氧化硅层中,从而产生实验中观察到的量子限制态和非量子限制态.在有效质量理论框架下计算了不同能级间的光跃迁矩阵元,得出了跃迁选择定则.强△态与г态间的跃迁几率很小,在俘获电子以后可以构成一种元激发陷阱.运用所计算的结果较好地解释了实验中观察到的PL和CL光谱中的量子限制态、非量子限制态、元激发陷阱以及各种不同的谱峰.; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:12:46导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:12:46Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5798.pdf: 377777 bytes, checksum: 109013f75060807bd4a7939f02d64477 (MD5) Previous issue date: 1997; 国家自然科学基金; 中科院半导体所
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息国家自然科学基金
语种中文
公开日期2010-11-23 ; 2011-04-29
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19419]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
薛舫时. 多孔硅中的电子激发态及其光谱研究[J]. 半导体学报,1997,18(3):161.
APA 薛舫时.(1997).多孔硅中的电子激发态及其光谱研究.半导体学报,18(3),161.
MLA 薛舫时."多孔硅中的电子激发态及其光谱研究".半导体学报 18.3(1997):161.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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