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MBE生长应变Si(1-x)Ge_x/Si MQW结构中Ge分布的计算

文献类型:期刊论文

作者司俊杰 ; 杨沁清 ; 王启明
刊名半导体学报
出版日期1997
卷号18期号:8页码:561
中文摘要根据MBE实际生长条件,采用在应变Si_(1-x)Ge_x/Si MQW结构中同应变相关的Ge的扩散系数,用生长过程的移动边界条件,求解了Ge在Si_(1-x)Ge_x/Si MQW中的扩散方程,模拟出了MQW的畸变,指出了这种畸变具有固定的不对称性,并分析了不同生长温度、应变及阱宽情况下MQW畸变。
学科主题光电子学
收录类别CSCD
语种中文
公开日期2010-11-23
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19463]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
司俊杰,杨沁清,王启明. MBE生长应变Si(1-x)Ge_x/Si MQW结构中Ge分布的计算[J]. 半导体学报,1997,18(8):561.
APA 司俊杰,杨沁清,&王启明.(1997).MBE生长应变Si(1-x)Ge_x/Si MQW结构中Ge分布的计算.半导体学报,18(8),561.
MLA 司俊杰,et al."MBE生长应变Si(1-x)Ge_x/Si MQW结构中Ge分布的计算".半导体学报 18.8(1997):561.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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