Ti和蓝宝石的界面反应
文献类型：期刊论文
| 作者 | 顾诠 ; 王佑祥 ; 崔玉德 ; 陈新 ; 陶琨 |
| 刊名 | 物理学报
 |
| 出版日期 | 1996 |
| 卷号 | 45期号:5页码:832 |
| 中文摘要 | 在超高真空中用电子束蒸发在抛光的(1102)取向的蓝宝石(a-Al_2O_3)衬底上蒸镀500 nm的Ti膜,在恒温炉中退火,然后用XRD(包括一般的和小角度的X射线衍射),AES和SIMS等表面分析技术详细研究了从室温至850℃,Ti与a-Al_2O_3的固相界面反应.首次系统提出了不同反应温区相应的化学反应式,讨论了采用体材料数据作热力学计算来预言Ti/a-Al_2O_3界面反应的局限性. |
| 学科主题 | 半导体化学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 资助信息 | 国家自然科学基金 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19543]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 顾诠,王佑祥,崔玉德,等. Ti和蓝宝石的界面反应[J]. 物理学报,1996,45(5):832. |
| APA | 顾诠,王佑祥,崔玉德,陈新,&陶琨.(1996).Ti和蓝宝石的界面反应.物理学报,45(5),832. |
| MLA | 顾诠,et al."Ti和蓝宝石的界面反应".物理学报 45.5(1996):832. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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