气相色谱法测定薄膜中氢含量
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吕惠云 ; 陈克铭 |
| 刊名 | 半导体学报
 |
| 出版日期 | 1993 |
| 卷号 | 14期号:3页码:189 |
| 学科主题 | 半导体化学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20135]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕惠云,陈克铭. 气相色谱法测定薄膜中氢含量[J]. 半导体学报,1993,14(3):189. |
| APA | 吕惠云,&陈克铭.(1993).气相色谱法测定薄膜中氢含量.半导体学报,14(3),189. |
| MLA | 吕惠云,et al."气相色谱法测定薄膜中氢含量".半导体学报 14.3(1993):189. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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