基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 施伟杰 ; 王向朝 ; 张冬青 ; 王帆 |
| 刊名 | 中国激光
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 33期号:1页码:85 |
| 关键词 | 激光技术 焦深 光学对准 投影光刻机 原位检测 |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| 其他题名 | In-situ measurement method of dense-line depth of focus of a lithographic projection system |
| 中文摘要 | 提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深（DOF）的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上，硅片显影后，由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息，根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深。与传统的FEM焦深测试技术相比，该技术具有测量精度高、速度快、成本低、操作简单等优点，在光刻工艺参数优化及光刻设备性能评价等方面有很好的应用前景。 |
| 分类号 | TN305.7 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-18 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/1894]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 施伟杰,王向朝,张冬青,等. 基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术, In-situ measurement method of dense-line depth of focus of a lithographic projection system[J]. 中国激光,2006,33(1):85, 90. |
| APA | 施伟杰,王向朝,张冬青,&王帆.(2006).基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术.中国激光,33(1),85. |
| MLA | 施伟杰,et al."基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术".中国激光 33.1(2006):85. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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