基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 施伟杰 ; 王向朝 ; 张冬青 ; 马明英 ; 王帆 |
| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 26期号:3页码:398 |
| 关键词 | 光学测量 原位检测 套刻性能 光刻机 焦面检测对准标记 |
| ISSN号 | 0253-2239 |
| 其他题名 | An In-situ method for measuring the overlay performance of a lithographic system with mirror-symmetry FOCAL marks |
| 中文摘要 | 套刻性能是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一。提出了一种基于镜像焦面检测对准标记（简称“镜像焦面检测对准标记”）的光刻机套刻性能原位测量技术。该技术通过对曝光在硅片上的镜像焦面检测对准标记图形进行光学对准，利用标记图形对准位置与理想位置偏差实现套刻性能的原位检测。实验结果表明该技术在进行套刻误差的精确测量的同时还可以全面、定量地计算影响光刻机单机套刻误差的场内参量及场间参量。与目前套刻性能原位测量技术相比，该技术有效地避免了测量精度对轴向像质限制的依赖，简化了光刻机整机性能检测的过程。 |
| 分类号 | TN305.7 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-18 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/1896]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 施伟杰,王向朝,张冬青,等. 基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术[J]. 光学学报,2006,26(3):398, 402. |
| APA | 施伟杰,王向朝,张冬青,马明英,&王帆.(2006).基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术.光学学报,26(3),398. |
| MLA | 施伟杰,et al."基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术".光学学报 26.3(2006):398. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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