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屏蔽气体对氩等离子体冲击射流的影响

文献类型:期刊论文

作者程凯; 陈熙; 潘文霞; 王海兴
刊名工程热物理学报
出版日期2005
卷号26期号:6页码:1019-1021
关键词氩等离子体 冲击射流 屏蔽气保护 射流卷吸 组分扩散
ISSN号0253-231X
其他题名EFFECTS OF SHROUD GAS ON LAMINAR ARGON PLASMA JETS IMPINGING ON A SUBSTRATE IN AMBIENT AIR
中文摘要在空气环境中利用氩等离子体射流进行材料加工时,环境空气卷吸进入射流可能会引起金属材料氧化.采用同轴屏蔽气体保护是减小该不利影响的一种可行方案.为此本文对空气环境中层流氩等离子体冲击射流特性受屏蔽气体影响问题进行了数值模拟研究,重点考察了屏蔽气体速度等对材料加工区氧含量的影响.
学科主题力学
收录类别EI ; CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:2090095
公开日期2007-06-15 ; 2007-12-05 ; 2009-06-23
源URL[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/16388]  
专题力学研究所_力学所知识产出(1956-2008)
推荐引用方式
GB/T 7714
程凯,陈熙,潘文霞,等. 屏蔽气体对氩等离子体冲击射流的影响[J]. 工程热物理学报,2005,26(6):1019-1021.
APA 程凯,陈熙,潘文霞,&王海兴.(2005).屏蔽气体对氩等离子体冲击射流的影响.工程热物理学报,26(6),1019-1021.
MLA 程凯,et al."屏蔽气体对氩等离子体冲击射流的影响".工程热物理学报 26.6(2005):1019-1021.

入库方式: OAI收割

来源:力学研究所

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