深刻蚀高密度熔融石英光栅
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王顺权 ; 周常河 ; 茹华一 ; 张妍妍 |
| 刊名 | 中国激光
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 33期号:2页码:175 |
| 关键词 | 光栅 深刻蚀 感应耦合等离子体 熔融石英 |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| 其他题名 | Deep etched high-density fused silica phase gratings |
| 中文摘要 | 深刻蚀高密度熔融石英光栅是一种新型高效的衍射光学元件，具有衍射效率高、成本低、抗损伤，能在高强度激光条件下工作等优点。给出了利用感应耦合等离子体（ICP）技术制作熔融石英深刻蚀光栅的详细过程，并在一定的优化条件下制作了一系列不同周期、开口比和深度的高质量深刻蚀石英光栅。实验得到的最大刻蚀深度为4μm，并且在600l／mm的高密度条件下得到了刻蚀深度为1．9μm的高深宽比石英光栅。光栅侧壁陡直，表面平整，没有聚合物沉积。所制作的熔融石英光栅元件在高强激光环境、光谱仪、高效滤波器和波分复用系统等领域中有非常广 |
| 分类号 | TN305.7;O436.1 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-18 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/1932]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王顺权,周常河,茹华一,等. 深刻蚀高密度熔融石英光栅[J]. 中国激光,2006,33(2):175, 178. |
| APA | 王顺权,周常河,茹华一,&张妍妍.(2006).深刻蚀高密度熔融石英光栅.中国激光,33(2),175. |
| MLA | 王顺权,et al."深刻蚀高密度熔融石英光栅".中国激光 33.2(2006):175. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。