浸没式光刻技术的研究进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 袁琼雁 ; 王向朝 ; 施伟杰 ; 李小平 |
| 刊名 | 激光与光电子学进展
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 43期号:8页码:13 |
| 关键词 | 光刻 浸没式光刻 投影物镜 浸没液体 偏振光照明 气泡 |
| ISSN号 | 1006-4125 |
| 中文摘要 | 浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径，可以将193nm光刻延伸到45nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理，讨论了液体浸没带来的问题，最后介绍了浸没式光刻机的研发进展。 |
| 分类号 | TN305.7 |
| 收录类别 | 0 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-18 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/1988]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 袁琼雁,王向朝,施伟杰,等. 浸没式光刻技术的研究进展[J]. 激光与光电子学进展,2006,43(8):13, 20. |
| APA | 袁琼雁,王向朝,施伟杰,&李小平.(2006).浸没式光刻技术的研究进展.激光与光电子学进展,43(8),13. |
| MLA | 袁琼雁,et al."浸没式光刻技术的研究进展".激光与光电子学进展 43.8(2006):13. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。