分子印迹纳米材料用于DNA损伤的荧光成像分析
文献类型：会议论文
| 作者 | 尹俊发 ; 宋媛媛; 徐田; 张宁; 宋茂勇; 汪海林
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| 出版日期 | 2015-04-19 |
| 会议名称 | 第二十届全国色谱学术报告会及仪器展览会 |
| 会议日期 | 2015-04-19 |
| 会议地点 | 中国陕西西安 |
| 关键词 | 分子印迹聚合物 纳米材料 DNA损伤 |
| 中文摘要 | 污染物的致癌性与DNA损伤存在着因果关系,并可能是化学致癌进程的关键步骤。环境中高毒性、难降解的污染物(如苯并[a]芘、酚类污染物)进入生物体后,原型或代谢中间体会与DNA发生作用,形成DNA加合物、8-oxod G等损伤产物。这些DNA损伤产物分布频数通常仅在0.1~100个损伤产物/10~8个正常核苷酸,传统的分析化学方法难以企及。因此,DNA损伤分析面临的突出挑战是怎样在大量的正常DNA中甄别和筛查痕量的特定DNA损伤产物[1]。 |
| 源URL | [http://ir.rcees.ac.cn/handle/311016/33395]  |
| 专题 | 生态环境研究中心_环境化学与生态毒理学国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 尹俊发,宋媛媛,徐田,等. 分子印迹纳米材料用于DNA损伤的荧光成像分析[C]. 见:第二十届全国色谱学术报告会及仪器展览会. 中国陕西西安. 2015-04-19. |
入库方式： OAI收割
来源：生态环境研究中心
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