欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李刚; 吕起鹏; 公发权; 王锋; 孙龙; 金玉奇 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2014-12-23 |
| 卷号 | 34期号:3页码:261 |
| 通讯作者 | 李刚 |
| 学科主题 | 物理化学 |
| 公开日期 | 2016-05-09 |
| 源URL | [http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/143998]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 作者单位 | 大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李刚,吕起鹏,公发权,等. 欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜[J]. 真空科学与技术学报,2014,34(3):261. |
| APA | 李刚,吕起鹏,公发权,王锋,孙龙,&金玉奇.(2014).欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜.真空科学与技术学报,34(3),261. |
| MLA | 李刚,et al."欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜".真空科学与技术学报 34.3(2014):261. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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