光学光刻中的离轴照明技术
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 郭立萍 ; 黄惠杰 ; 王向朝 |
| 刊名 | 激光杂志
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 26期号:1页码:23 |
| 关键词 | 光学光刻 离轴照明 分辨率 焦深 Profith仿真 |
| ISSN号 | 0253-2743 |
| 其他题名 | Off-axis illumination for optical lithography |
| 中文摘要 | 本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照明与传统照明作了比较，并用Prolith仿真软件进行了模拟分析。研究表明，离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术。 |
| 分类号 | TN305.7 |
| 收录类别 | 0 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-18 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/2092]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭立萍,黄惠杰,王向朝. 光学光刻中的离轴照明技术, Off-axis illumination for optical lithography[J]. 激光杂志,2005,26(1):23, 25. |
| APA | 郭立萍,黄惠杰,&王向朝.(2005).光学光刻中的离轴照明技术.激光杂志,26(1),23. |
| MLA | 郭立萍,et al."光学光刻中的离轴照明技术".激光杂志 26.1(2005):23. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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