一种超高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物及其应用
文献类型：专利
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| 作者 | 陈吉平; 孙晓丽; 王金成 |
| 发表日期 | 2015-11-01 |
| 专利号 | CN201310334888.8 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 是否PCT专利 | 否 |
| 中文摘要 | 本发明提供一种超高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物的制备和应用方法。材料制备步骤如下：将替代模板分子、交联剂、功能单体和引发剂溶于致孔溶剂中，制备成预聚合溶液，于50-70℃下聚合反应24-48h。聚合反应生成的白色块状聚合物经研磨、筛分、沉降后，得到粒径为45-63μm的聚合物颗粒。得到的聚合物颗粒依次使用甲醇/乙酸和甲醇为萃取溶剂进行索氏抽提，除去残留的替代模板分子和未反应物质，即得到替代模板分子印迹聚合物。本发明提供的替代模板分子印迹固相萃取材料对双酚类化合物具有很强的特异选择性和富集能力，同时解决了痕量分析时的模板泄露问题，可用于复杂基质中双酚类内分泌干扰物的分离与富集。 |
| 学科主题 | 物理化学 |
| 公开日期 | 2015-02-11 |
| 授权日期 | 2015-11-01 |
| 申请日期 | 2013-08-02 |
| 专利申请号 | CN201310334888.8 |
| 源URL | [http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/145163]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈吉平,孙晓丽,王金成. 一种超高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物及其应用, 一种超高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物及其应用, 一种超高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物及其应用, 一种超高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物及其应用. CN201310334888.8. 2015-11-01. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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