Si基InAsSb纳米线MOCVD生长及机理研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 杜文娜 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 2016-05-30 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院 |
| 授予地点 | 北京 |
| 导师 | 王占国 ; 杨涛 |
| 关键词 | InAsSb纳米线 生长机制 平面纳米线 纳米线阵列 金属有机化学气相沉积 |
| 学位专业 | 材料物理与化学 |
| 学科主题 | 半导体材料 |
| 公开日期 | 2016-05-31 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27100]  |
| 专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜文娜. Si基InAsSb纳米线MOCVD生长及机理研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 2016. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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