Rapid roughening of Mo2C film surface
文献类型:期刊论文
作者 | Zheng, RL; Ran, YQ; Chen, H![]() ![]() ![]() |
刊名 | ACTA PHYSICA SINICA
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出版日期 | 2000 |
卷号 | 49期号:7页码:1335-1343 |
关键词 | Mo2C thin film rapid roughening roughness exponent |
通讯作者 | SW China Normal Univ, Dept Phys, Chongqing 400715, Peoples R China ; Chinese Acad Sci, Inst High Energy Phys, Beijing 100039, Peoples R China |
英文摘要 | The roughness of Mo2C film surface is measured and the results are given. By introduction of crystalline boundary correction,the rapid roughening phenomenon is explained theoretically. |
学科主题 | Physics |
类目[WOS] | Physics, Multidisciplinary |
研究领域[WOS] | Physics |
原文出处 | SCI |
语种 | 英语 |
WOS记录号 | WOS:000088125500025 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/239288] ![]() |
专题 | 高能物理研究所_加速器中心 高能物理研究所_实验物理中心 |
作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Zheng, RL,Ran, YQ,Chen, H,et al. Rapid roughening of Mo2C film surface[J]. ACTA PHYSICA SINICA,2000,49(7):1335-1343. |
APA | Zheng, RL,Ran, YQ,Chen, H,Ping, RG,&平荣刚.(2000).Rapid roughening of Mo2C film surface.ACTA PHYSICA SINICA,49(7),1335-1343. |
MLA | Zheng, RL,et al."Rapid roughening of Mo2C film surface".ACTA PHYSICA SINICA 49.7(2000):1335-1343. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
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