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Multi-Diagnostic Transverse Profile Monitor Chamber for Extreme Ultraviolet Lithography

文献类型:会议论文

作者T.J.Campese; R.B.Agustsson; M.A.Harrison; B.T.Jacobson; A.Y.Murokh; A.G.Ovodenko; M.Ruelas; H.L.To
出版日期2015
会议名称Proceedings of the 4th International Beam Instrumentation Conference
会议日期2015
会议地点Australia
会议录Proceedings of the 4th International Beam Instrumentation Conference
源URL[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/229645]  
专题高能物理研究所_学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_IBIC
作者单位RadiaBeam, Santa Monica, California, USA
推荐引用方式
GB/T 7714
T.J.Campese,R.B.Agustsson,M.A.Harrison,et al. Multi-Diagnostic Transverse Profile Monitor Chamber for Extreme Ultraviolet Lithography[C]. 见:Proceedings of the 4th International Beam Instrumentation Conference. Australia. 2015.

入库方式: OAI收割

来源:高能物理研究所

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