Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45nm node
文献类型：期刊论文
| 作者 | Qiongyan Yuan ; Xiangzhao Wang ; Zicheng Qiu |
| 刊名 | optik
 |
| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 120期号:7 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 光学 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-04-26 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6592]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Qiongyan Yuan,Xiangzhao Wang,Zicheng Qiu. Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45nm node[J]. optik,2009,120(7). |
| APA | Qiongyan Yuan,Xiangzhao Wang,&Zicheng Qiu.(2009).Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45nm node.optik,120(7). |
| MLA | Qiongyan Yuan,et al."Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45nm node".optik 120.7(2009). |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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