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一种低密度InAs量子点的分子束外延生长方法

文献类型:专利

作者李密锋 ; 喻颖 ; 贺继方 ; 査国伟 ; 尚向军 ; 倪海桥 ; 贺振宏 ; 牛智川
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体所
学科主题半导体物理
公开日期2016-08-30
专利申请号CN201310088301.X
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27210]  
专题半导体研究所_半导体超晶格国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
李密锋,喻颖,贺继方,等. 一种低密度InAs量子点的分子束外延生长方法.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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