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多有源区外延结构、采用其的半导体激光器及其制造方法

文献类型:专利

作者侯继达 ; 熊聪 ; 刘素平 ; 马骁宇
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体所
学科主题半导体器件
公开日期2016-09-12
申请日期2015-12-30
专利申请号CN201511024496.7
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27377]  
专题半导体研究所_光电子器件国家工程中心
推荐引用方式
GB/T 7714
侯继达,熊聪,刘素平,等. 多有源区外延结构、采用其的半导体激光器及其制造方法.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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