沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王恩青 ; 李淼磊 ; 朱萍 ; 黄峰 ; 岳建岭 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2015 |
| 卷号 | 35期号:8页码:1005-1010 |
| 关键词 | 磁控溅射 V-Al-Si-N涂层 沉积温度 生长结构 摩擦磨损 |
| ISSN号 | 1672-7126 |
| 中文摘要 | 采用磁控溅射工艺制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析。研究结果表明:室温下制备的涂层生长缺陷较多,残余应力较大。适当提高沉积温度至300℃,涂层的晶体结晶性得到提高,柱状晶粗大贯穿整个膜厚,晶粒尺寸变大;继续提高沉积温度至500℃时,涂层呈(200)择优取向,晶粒尺寸变小,涂层致密度提高。随着沉积温度的提高,涂层的硬度略有下降,但是涂层的摩擦学性能得到大幅度提升。500℃制备涂层的硬度为29.7 GPa,磨损率达到6.1×10-17m3/Nm,比室温制备的涂层的磨损率降低了两个数量级。 |
| 公开日期 | 2016-09-18 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/12203]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_2015专题 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王恩青,李淼磊,朱萍,等. 沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响[J]. 真空科学与技术学报,2015,35(8):1005-1010. |
| APA | 王恩青,李淼磊,朱萍,黄峰,&岳建岭.(2015).沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响.真空科学与技术学报,35(8),1005-1010. |
| MLA | 王恩青,et al."沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响".真空科学与技术学报 35.8(2015):1005-1010. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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