偏压对Cr-Si-N涂层的结构与性能的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 贾丛丛 ; 李沛 ; 葛芳芳 ; 王恩青 ; 黄峰 ; 鲁晓刚 |
刊名 | 真空科学与技术学报
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出版日期 | 2016 |
卷号 | 36期号:4页码:418-424 |
关键词 | 物理气相沉积磁控溅射 偏压 Cr-Si-N涂层 机械性能 摩擦行为 |
ISSN号 | 1672-7126 |
中文摘要 | Cr-Si—N涂层具有较高的硬度,良好的耐磨损抗氧化功能。本文采用磁控溅射沉积方法,以偏压为变量,在三种基片上制备Cr—Si—N涂层。本研究采用X射线衍射仪和扫描型电子显微镜表征偏压对Cr—Si-N涂层的结构的影响;采用纳米压痕仪、残余应力仪、摩擦磨损机等测试偏压对Cr-Si-N涂层的性能的影响。XRD结果显示,随着偏压增加,晶粒变小,并且衍射峰逐渐向小角度偏移。SEM结果显示,随着偏压从0增至-50 V,涂层的柱状晶结构趋于致密化。偏压为0 V,硬度是12.4GPa,偏压增至-50 V,硬度增至35.5 GPa,提高了近两倍。偏压对磨损量影响很小,在偏压为-10 V时,磨损率最小。 |
公开日期 | 2016-09-18 |
源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/12071] ![]() |
专题 | 宁波材料技术与工程研究所_2016专题 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 贾丛丛,李沛,葛芳芳,等. 偏压对Cr-Si-N涂层的结构与性能的影响[J]. 真空科学与技术学报,2016,36(4):418-424. |
APA | 贾丛丛,李沛,葛芳芳,王恩青,黄峰,&鲁晓刚.(2016).偏压对Cr-Si-N涂层的结构与性能的影响.真空科学与技术学报,36(4),418-424. |
MLA | 贾丛丛,et al."偏压对Cr-Si-N涂层的结构与性能的影响".真空科学与技术学报 36.4(2016):418-424. |
入库方式: OAI收割
来源:宁波材料技术与工程研究所
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