不同气氛下退火的ZnO/Bi_(3
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李佳 ; Michiko Yoshitake ; 宋伟杰 |
| 刊名 | 稀有金属材料与工程
 |
| 出版日期 | 2016 |
| 卷号 | 45期号:S1页码:453-456 |
| 关键词 | BLT ZnO 退火气氛 XPS 深度剖析 |
| ISSN号 | 1002-185X |
| 中文摘要 | 采用溶胶-凝胶法制备了Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)(BLT)铁电薄膜,并分别于Ar、O_2和空气中退火。同时,制备了BLT/ZnO(8nm)结构,并采用X射线光电子能谱深度剖析技术对界面的化学状态进行了分析。结果显示:BLT薄膜中的Bi扩散到了ZnO层中,ZnO层中的Zn也进入到BLT薄膜内部。同时,退火气氛中氧气的含量越多,Bi-O及Ti-O键将变得更为稳定。这一结果有助于对提升以半导体为沟道的铁电栅场效应晶体管的性能起到指导作用。 |
| 公开日期 | 2016-09-18 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/12168]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_2016专题 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李佳,Michiko Yoshitake,宋伟杰. 不同气氛下退火的ZnO/Bi_(3[J]. 稀有金属材料与工程,2016,45(S1):453-456. |
| APA | 李佳,Michiko Yoshitake,&宋伟杰.(2016).不同气氛下退火的ZnO/Bi_(3.稀有金属材料与工程,45(S1),453-456. |
| MLA | 李佳,et al."不同气氛下退火的ZnO/Bi_(3".稀有金属材料与工程 45.S1(2016):453-456. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。