Development of a High-Pressure Chemical Etching Method as a Surface Treatment for High-Field Accelerating Structures Made of Copper
文献类型：会议论文
| 作者 | H.Tomizawa; H.Dewa; H.Hanaki; A.Mizuno; T.Taniuchi |
| 出版日期 | 2008 |
| 会议名称 | Proceedings of the 24th Linear Accelerator Conference |
| 会议日期 | 2008 |
| 会议地点 | Canada |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/252469]  |
| 专题 | 高能物理研究所_学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_LINAC |
| 作者单位 | JASRI/SPring-8, Hyogo-ken |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | H.Tomizawa,H.Dewa,H.Hanaki,et al. Development of a High-Pressure Chemical Etching Method as a Surface Treatment for High-Field Accelerating Structures Made of Copper[C]. 见:Proceedings of the 24th Linear Accelerator Conference. Canada. 2008. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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