深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备
文献类型：期刊论文
| 作者 | 蒲玲琳; 林大伟; 李斌成 |
| 刊名 | 光电工程
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| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 39期号:5页码:13-17 |
| 关键词 | 深紫外 增透膜 宽入射角范围 剩余反射率 |
| 通讯作者 | 蒲玲琳 |
| 中文摘要 | 在大数值孔径深紫外光学系统中,需要使用宽入射角范围的增透膜光学元件。选择LaF3和MgF2两种镀膜材料,设计了适用于深紫外宽入射角范围的三层、五层和七层三种增透膜系。实验使用热舟蒸发在熔融石英基底上镀制了设计的薄膜,并用紫外分光光度计对其光谱性能进行了测试,得到了在宽入射角范围内具有较高透过率的深紫外增透膜元件。双面镀五层增透膜系的熔石英基片在0°?55°入射角内的剩余反射率小于2.5%,在0°?20°入射角内的透过率大于98%。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6602]  |
| 专题 | 光电技术研究所_薄膜光学技术研究室（十一室） |
| 作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院研究生院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 蒲玲琳,林大伟,李斌成. 深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备[J]. 光电工程,2012,39(5):13-17. |
| APA | 蒲玲琳,林大伟,&李斌成.(2012).深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备.光电工程,39(5),13-17. |
| MLA | 蒲玲琳,et al."深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备".光电工程 39.5(2012):13-17. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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