用模拟退火法确定MgF_2薄膜折射率和厚度
文献类型:期刊论文
作者 | 郭春; 李斌成 |
刊名 | 光学精密工程
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出版日期 | 2013 |
卷号 | 21期号:4页码:858-863 |
关键词 | 薄膜参数测量 折射率测量 膜厚测量 模拟退火算法 MgF2 |
通讯作者 | 郭春 |
中文摘要 | 研究了确定单层MgF2薄膜的物理厚度及其在深紫外/真空紫外波段折射率的方法。首先,利用钼舟热蒸发工艺在B270基底上制备了单层MgF2薄膜。然后,依据MgF2单层膜在不同入射角下的反射光谱,采用模拟退火方法确定了MgF2薄膜在170~260nm波段的折射率和物理厚度,并与由椭圆偏振法确定的薄膜参数进行了比较。实验显示,采用模拟退火和椭圆偏振两种方法确定的MgF2薄膜厚度分别为248.5nm和249.5nm,偏差为0.4%;而用上述两种方法在240~260nm波段确定的单层MgF2薄膜的折射率偏差均小于0.003。得到的结果证实了依据不同入射角下的反射光谱,用模拟退火方法确定MgF2薄膜厚度和折... |
收录类别 | Ei |
语种 | 中文 |
源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6609] ![]() |
专题 | 光电技术研究所_薄膜光学技术研究室(十一室) |
作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭春,李斌成. 用模拟退火法确定MgF_2薄膜折射率和厚度[J]. 光学精密工程,2013,21(4):858-863. |
APA | 郭春,&李斌成.(2013).用模拟退火法确定MgF_2薄膜折射率和厚度.光学精密工程,21(4),858-863. |
MLA | 郭春,et al."用模拟退火法确定MgF_2薄膜折射率和厚度".光学精密工程 21.4(2013):858-863. |
入库方式: OAI收割
来源:光电技术研究所
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