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基于改进粒子滤波的光电目标跟踪算法研究

文献类型:期刊论文

作者熊茂涛; 张勇; 吴钦章
刊名微纳电子技术
出版日期2010
卷号47期号:10页码:634-637+642
通讯作者熊茂涛
中文摘要介绍了一种适合高分辨力接近/接触式光刻的新型纳米级光刻对准方法。简要阐述了该对准方法的基本原理,探讨了应用该对准方法的光学结构设计,提出了照明光路与干涉条纹捕获光路的垂直设计,采用单色非曝光光源远心照明方式并外加补偿光路的结构设计。在软件处理方面,提出采用九点四线曲面拟合面阵CCD细分方法及最小二乘曲线拟合定位方法,实现光刻对准精度的进一步提高。该光刻对准方法能够克服现有对准技术的诸多缺陷,具有纳米级对准精度,能够满足纳米光刻的对准需求。
语种中文
源URL[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4328]  
专题光电技术研究所_光电探测技术研究室(三室)
作者单位中国科学院光电技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
熊茂涛,张勇,吴钦章. 基于改进粒子滤波的光电目标跟踪算法研究[J]. 微纳电子技术,2010,47(10):634-637+642.
APA 熊茂涛,张勇,&吴钦章.(2010).基于改进粒子滤波的光电目标跟踪算法研究.微纳电子技术,47(10),634-637+642.
MLA 熊茂涛,et al."基于改进粒子滤波的光电目标跟踪算法研究".微纳电子技术 47.10(2010):634-637+642.

入库方式: OAI收割

来源:光电技术研究所

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