基于辐射衰减的IRFPA非均匀性校正
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李满良; 吴钦章; 曹晓伟 |
| 刊名 | 光电工程
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| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 40期号:2页码:123-129 |
| 关键词 | 辐射衰减 非均匀性校正 IRFPA 辐射测量 |
| 通讯作者 | 李满良 |
| 中文摘要 | 针对机动红外测量系统单点非均匀性校正效果不佳、两点非均匀性校正制约条件多的难点,提出了基于辐射衰减的IRFPA(红外焦平面阵列)非均匀性校正新方法。该方法利用辐射衰减片使IRFPA获得不同辐射响应,实现非均匀性两点校正和分段两点校正。分段两点校正通过建立衰减倍率和IRFPA灰度的响应曲线,反演计算任意辐射所处的响应段落,实现了无需定标黑体即可进行分段两点校正。实验结果表明,基于辐射衰减的非均匀性校正效果优于常规方法,在低背景辐射测量条件下校正均匀性提高50%,具有操作简便和环境适应性强的特点。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4412]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电探测技术研究室（三室） |
| 作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院大学 3.中国人民解放军63610部队 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李满良,吴钦章,曹晓伟. 基于辐射衰减的IRFPA非均匀性校正[J]. 光电工程,2013,40(2):123-129. |
| APA | 李满良,吴钦章,&曹晓伟.(2013).基于辐射衰减的IRFPA非均匀性校正.光电工程,40(2),123-129. |
| MLA | 李满良,et al."基于辐射衰减的IRFPA非均匀性校正".光电工程 40.2(2013):123-129. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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