电子束曝光系统中精密工件台的测量系统
文献类型：期刊论文
| 作者 | 严伟; 胡松; 杨勇; 周绍林; 蒋文波; 李艳丽; 乔俊仙 |
| 刊名 | 微纳电子技术
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| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 46期号:4页码:244-249 |
| 通讯作者 | 严伟 |
| 中文摘要 | 介绍了电子束曝光技术的原理.根据精密工件台对测量系统的需要,设计了三轴工件台测量系统布局方式,并简单介绍了激光干涉测量系统所需元器件数量的计算方法.重点讨论了双频激光干涉测量原理、双频光束与运动方向敏感性的 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7226]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 严伟,胡松,杨勇,等. 电子束曝光系统中精密工件台的测量系统[J]. 微纳电子技术,2009,46(4):244-249. |
| APA | 严伟.,胡松.,杨勇.,周绍林.,蒋文波.,...&乔俊仙.(2009).电子束曝光系统中精密工件台的测量系统.微纳电子技术,46(4),244-249. |
| MLA | 严伟,et al."电子束曝光系统中精密工件台的测量系统".微纳电子技术 46.4(2009):244-249. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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