数字灰度投影光刻技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵立新; 严伟; 王建; 胡松; 唐小萍; 王肇志; 王淑蓉; 张正荣; 张雨东 |
| 刊名 | 微纳电子技术
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| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 46期号:3页码:181-185 |
| 通讯作者 | 赵立新 |
| 中文摘要 | 随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点.介绍了一种基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字灰度投影光刻技术,结合电寻址数字微镜阵列的工作方式,分析了 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7228]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵立新,严伟,王建,等. 数字灰度投影光刻技术[J]. 微纳电子技术,2009,46(3):181-185. |
| APA | 赵立新.,严伟.,王建.,胡松.,唐小萍.,...&张雨东.(2009).数字灰度投影光刻技术.微纳电子技术,46(3),181-185. |
| MLA | 赵立新,et al."数字灰度投影光刻技术".微纳电子技术 46.3(2009):181-185. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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