Moire-based focusing and leveling scheme for optical projection lithography
文献类型：期刊论文
| 作者 | Yan Wei; Yang Yong; Chen Wangfu; Hu Song; Zhou Shaolin |
| 刊名 | Applied Optics
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 49期号:31 |
| 通讯作者 | Yan W (Yan Wei) |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7233]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Yan Wei,Yang Yong,Chen Wangfu,et al. Moire-based focusing and leveling scheme for optical projection lithography[J]. Applied Optics,2010,49(31). |
| APA | Yan Wei,Yang Yong,Chen Wangfu,Hu Song,&Zhou Shaolin.(2010).Moire-based focusing and leveling scheme for optical projection lithography.Applied Optics,49(31). |
| MLA | Yan Wei,et al."Moire-based focusing and leveling scheme for optical projection lithography".Applied Optics 49.31(2010). |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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