基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱江平; 胡松; 于军胜; 唐燕; 周绍林 |
| 刊名 | 光学学报
 |
| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 32期号:6页码:34-40 |
| 关键词 | 傅里叶光学 光刻对准 角位移 叠栅条纹 相位斜率 线光栅标记 |
| 通讯作者 | 朱江平 |
| 中文摘要 | 在线光栅用于纳米光刻对准理论的基础上,为实现光栅方向的标定和掩模硅片对准,提出一种利用相位斜率消除角位移的新方法,并给出线光栅标记及其对准原理。在对准前,掩模对准标记和硅片对准标记存在角位移,重点讨论了此种情况下叠栅条纹的特性以及与光栅物理参数的关系,并给出了相应的计算公式。基于傅里叶频域分析法,对叠栅条纹频率成分与条纹的关系做了简要分析。利用提取叠栅条纹行列方向的一维相位,通过数据拟合,得出了相位斜率与角位移的内在关系,实现了条纹方向的标定。模拟实验结果表明,该方法简单可靠,可分辨的最小角位移低于0.02°。 |
| 收录类别 | Ei |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7251]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.电子科技大学光电信息学院 3.中国科学院研究生院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱江平,胡松,于军胜,等. 基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法[J]. 光学学报,2012,32(6):34-40. |
| APA | 朱江平,胡松,于军胜,唐燕,&周绍林.(2012).基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法.光学学报,32(6),34-40. |
| MLA | 朱江平,et al."基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法".光学学报 32.6(2012):34-40. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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