叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱江平; 胡松; 于军胜 |
| 刊名 | 光学学报
 |
| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 32期号:9页码:116-123 |
| 关键词 | 测量 光刻对准 角位移 叠栅条纹 相位分析 |
| 通讯作者 | 朱江平 |
| 中文摘要 | 光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系。在实际的应用中,叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关,而且还与CCD的位置有关。为了将叠栅条纹的光刻对准方法推向实际应用,从矩形光栅到叠栅条纹,分析了一般光栅的相位分布规律。根据叠栅条纹相位特性分析了掩模、基片和CCD的几何位置对对准精度的影响;建立了实际对准偏差与理论值的数学关系模型。研究表明,没有角位移的情况下,当位移值小于0.4pixel时,理论上最大对准误差低于0.002pixel。 |
| 收录类别 | Ei |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7252]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.电子科技大学光电信息学院 3.中国科学院研究生院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱江平,胡松,于军胜. 叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析[J]. 光学学报,2012,32(9):116-123. |
| APA | 朱江平,胡松,&于军胜.(2012).叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析.光学学报,32(9),116-123. |
| MLA | 朱江平,et al."叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析".光学学报 32.9(2012):116-123. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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