光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱江平; 胡松; 于军胜; 唐燕; 周绍林; 何渝 |
| 刊名 | 中国激光
 |
| 出版日期 | 2013 |
| 期号 | 1页码:0108002-1-5 |
| 关键词 | 光栅 掩模光栅 光刻对准 角度标定 叠栅条纹 |
| 通讯作者 | 朱江平 |
| 中文摘要 | 双光栅叠栅条纹对准方法具有精度高、可靠性强等特点,适用于接近接触式光刻。为了实现高精度测量,实际应用中要求掩模光栅标记与硅片光栅标记高度平行。掩模光栅标记在CCD中成像通常存在一定的倾斜角。由此,在已提出的相位斜率倾斜条纹标定方法上,提出了一种改进方法。该方法充分利用掩模光栅45°和135°两个方向的相位信息标定CCD的成像位置,以实现掩模光栅条纹的标定。对比两种方法分析表明,改进后的方法具有倾角测量范围大、抗噪性强、精度高等优点,理论极限精度优于0.001°量级。 |
| 收录类别 | Ei |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7265]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.电子科技大学光电信息学院 3.中国科学院大学 4.华南理工大学电子与信息学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱江平,胡松,于军胜,等. 光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法[J]. 中国激光,2013(1):0108002-1-5. |
| APA | 朱江平,胡松,于军胜,唐燕,周绍林,&何渝.(2013).光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法.中国激光(1),0108002-1-5. |
| MLA | 朱江平,et al."光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法".中国激光 .1(2013):0108002-1-5. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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