基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冯金花; 胡松; 李艳丽; 何渝 |
| 刊名 | 光学学报
 |
| 出版日期 | 2015 |
| 卷号 | 35期号:2页码:202-207 |
| 关键词 | 测量 纳米检焦 相位解析 光弹调制 横向剪切板 |
| 通讯作者 | 冯金花 |
| 中文摘要 | 随着光刻机分辨力节点的提高,纳米级的高精度检焦技术变得愈发重要。针对投影光刻的特点,介绍了一种基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法。此方法基于三角法测量原理,通过光弹调制器和横向剪切板的光学调制、平行平板的相位调整,硅片位移的变化会引起调制光强发生正余弦变化。根据光强的正余弦变化,求出焦面位移量。经实验与数据分析,该方法具有纳米级的检焦精度,且具有实时性强、非接触等特点,能满足100 nm投影光刻中焦面检测的需要。 |
| 收录类别 | Ei |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7342]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯金花,胡松,李艳丽,等. 基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法[J]. 光学学报,2015,35(2):202-207. |
| APA | 冯金花,胡松,李艳丽,&何渝.(2015).基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法.光学学报,35(2),202-207. |
| MLA | 冯金花,et al."基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法".光学学报 35.2(2015):202-207. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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