采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 史立芳,曹阿秀,郭书基 |
| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2015 |
| 卷号 | 35期号:s1页码:314-319 |
| 关键词 | 光学制造 光学漩涡 光刻 微光学元件 |
| 通讯作者 | 史立芳 |
| 中文摘要 | 提供了一种制备连续面形螺旋位相板(SPP)的方法。通过将三维目标面形在一维方向上按照一定的间隔进行抽样处理，进而将获得的样条按照比例平铺在抽样空间内，获得与目标面形对应的二维掩模结构图形；利用该掩模结构在抽样方向上进行一次曝光即可获得目标面形。对该抽样方法、结构参数进行了分析，并且针对该方法开展了制备技术研究，制备出了4种电荷数分别为1,3,10和20的螺旋相位片，其适用波长为532 nm，并对其光学效果进行了测试。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7358]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 史立芳,曹阿秀,郭书基. 采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法[J]. 光学学报,2015,35(s1):314-319. |
| APA | 史立芳,曹阿秀,郭书基.(2015).采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法.光学学报,35(s1),314-319. |
| MLA | 史立芳,曹阿秀,郭书基."采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法".光学学报 35.s1(2015):314-319. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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