光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 罗吉; 庄须叶; 倪祖高; 姚军 |
| 刊名 | 微纳电子技术
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| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 48期号:6页码:376-383+390 |
| 通讯作者 | 罗吉 |
| 中文摘要 | 对光纤消逝场理论进行了详细分析,阐述了影响光纤消逝场传感器灵敏度的一些关键因素,并对几种常见的光纤消逝场传感光纤的优缺点进行了比较,主要包括圆柱形、D形、U形、锥形以及光子晶体光纤等结构的传感光纤。通过分析各种传感结构的光纤消逝场传感器的应用实例,归纳总结了提高光纤消逝场传感器传感灵敏度的一般方法,包括在传感光纤表面镀薄敏感膜或者金属膜、优化传感光纤结构、进行荧光标记以及用纳米粒子修饰等一系列措施。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6770]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 罗吉,庄须叶,倪祖高,等. 光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用[J]. 微纳电子技术,2011,48(6):376-383+390. |
| APA | 罗吉,庄须叶,倪祖高,&姚军.(2011).光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用.微纳电子技术,48(6),376-383+390. |
| MLA | 罗吉,et al."光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用".微纳电子技术 48.6(2011):376-383+390. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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