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一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法

文献类型:期刊论文

作者王佳; 范斌; 万勇建; 施春燕; 卓彬
刊名光子学报
出版日期2014
卷号43期号:7页码:190-193
关键词光学加工 平滑谱函数 功率谱密度 中高频误差 卷积模型
通讯作者王佳
中文摘要结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为归一化且无量纲的频谱曲线.计算结果表明平滑谱函数曲线能以数值大小评价CCOS抛光工艺对不同频率误差的抑制能力.
收录类别Ei
语种中文
源URL[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7025]  
专题光电技术研究所_先光中心
作者单位1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王佳,范斌,万勇建,等. 一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法[J]. 光子学报,2014,43(7):190-193.
APA 王佳,范斌,万勇建,施春燕,&卓彬.(2014).一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法.光子学报,43(7),190-193.
MLA 王佳,et al."一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法".光子学报 43.7(2014):190-193.

入库方式: OAI收割

来源:光电技术研究所

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