沉积方式对ZnS薄膜表面缺陷影响研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张耀平; 张云洞 |
| 刊名 | 光学仪器
 |
| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 31期号:5页码:78-81 |
| 通讯作者 | 张耀平 |
| 中文摘要 | 介绍了ZnS薄膜缺陷的分类、特点及成因,在此基础上,采用电子显微镜与原子力显微镜对不同沉积方式沉积的薄膜进行了观察、分析与计算,检测了不同类型与大小的缺陷,对缺陷产生的原因进行了简要分析,分析了沉积方式这一参数对 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6153]  |
| 专题 | 光电技术研究所_自适应光学技术研究室（八室） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张耀平,张云洞. 沉积方式对ZnS薄膜表面缺陷影响研究[J]. 光学仪器,2009,31(5):78-81. |
| APA | 张耀平,&张云洞.(2009).沉积方式对ZnS薄膜表面缺陷影响研究.光学仪器,31(5),78-81. |
| MLA | 张耀平,et al."沉积方式对ZnS薄膜表面缺陷影响研究".光学仪器 31.5(2009):78-81. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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