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光束相干合成中填充因子对远场光强分布的影响

文献类型:期刊论文

作者谭毅; 李新阳
刊名物理学报
出版日期2014
卷号63期号:9页码:139-149
关键词相干合成 填充因子 远场光强分布 评价参数
通讯作者谭毅
中文摘要理论推导了相干光束阵列远场光强分布的解析表达式.介绍了填充因子及五种相干合成效果评价参数的定义.分析了填充因子对远场光强分布的影响,发现填充因子通过影响空间调制因子来改变远场光强分布.求得了相干合成效果评价参数与填充因子的关系式,并绘制了关系曲线.计算结果表明,斯特列尔比与填充因子无关,恒为1;中央主瓣半径与填充因子成正比关系;中央主瓣能量密度受填充因子的影响较小;中央主瓣能量比与填充因子的平方成近似正比关系;桶中功率与填充因子的关系很复杂,但总体上随着填充因子的√减小而减小.分析显示,若要保证中央主瓣能量比和PIB值均大于最佳值的一半,则填充因子应大于2/2.
收录类别SCI ; Ei
语种中文
源URL[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6396]  
专题光电技术研究所_自适应光学技术研究室(八室)
作者单位1.中国科学院自适应光学重点实验室
2.中国科学院光电技术研究所
3.中国科学院大学
推荐引用方式
GB/T 7714
谭毅,李新阳. 光束相干合成中填充因子对远场光强分布的影响[J]. 物理学报,2014,63(9):139-149.
APA 谭毅,&李新阳.(2014).光束相干合成中填充因子对远场光强分布的影响.物理学报,63(9),139-149.
MLA 谭毅,et al."光束相干合成中填充因子对远场光强分布的影响".物理学报 63.9(2014):139-149.

入库方式: OAI收割

来源:光电技术研究所

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