CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 杜晓明 ; 王敏鹏 ; 王燕 ; 李新喜 ; 张罡 ; 黄朝强 ; 吴二冬 |
| 刊名 | 原子能科学技术
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| 出版日期 | 2016-06-20 |
| 期号 | 6页码:1112-1117 |
| 关键词 | 中子反射 CrAlN/TiAlN多层膜 界面结构 |
| 中文摘要 | 采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备了CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用非极化中子和X射线反射对膜层厚度、膜层界面粗糙度、界面扩散等表面、界面结构和性质进行了系统研究。中子反射测得的CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜的厚度与设计厚度的差别为3.8%~4.2%。散射长度密度(SLD)分析结果表明,膜层间和膜层与基底间界面较为清晰,扩散较少。X射线反射测得的膜层厚度较中子反射测得的膜层厚度偏高,对于较小调制周期的多层膜,界面弥散会对X射线反射结果产生较大误差。 |
| 资助信息 | 中国工程物理研究院中子物理学重点实验室开放基金资助项目(2014BB05) |
| 公开日期 | 2016-08-22 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/76008]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜晓明,王敏鹏,王燕,等. CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究[J]. 原子能科学技术,2016(6):1112-1117. |
| APA | 杜晓明.,王敏鹏.,王燕.,李新喜.,张罡.,...&吴二冬.(2016).CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究.原子能科学技术(6),1112-1117. |
| MLA | 杜晓明,et al."CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究".原子能科学技术 .6(2016):1112-1117. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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