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磁流变抛光技术在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究进展(英文)

文献类型:期刊论文

作者张峰
刊名激光与光电子学进展
出版日期2015-09-10
期号09页码:272-278
关键词光学制造 磁流变抛光 磁流变抛光液 去除函数 驻留时间 带式磁流变抛光
中文摘要简述了国内外磁流变抛光技术的研究历史和现状。介绍了磁流变抛光技术的抛光原理、特性及优点。着重阐述了长春光学精密机械与物理研究所近几年来在磁流变抛光技术研究方面的最新进展,解决了磁流变抛光的若干关键技术,主要包括:研制出一种新型磁流变抛光液,这种磁流变抛光液具有优良的流变性和较高的抛光效率;研究出一种基于矩阵代数运算模型的磁流变抛光驻留时间求解算法;为了增加去除函数(抛光区)面积、提高材料去除效率,研制出适合大口径非球面反射镜加工的带式磁流变抛光机。
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/53452]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
张峰. 磁流变抛光技术在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究进展(英文)[J]. 激光与光电子学进展,2015(09):272-278.
APA 张峰.(2015).磁流变抛光技术在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究进展(英文).激光与光电子学进展(09),272-278.
MLA 张峰."磁流变抛光技术在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究进展(英文)".激光与光电子学进展 .09(2015):272-278.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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